2025九峰山論壇(JFSC)暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(CSE)將于4月23-25日在武漢光谷科技會展中心啟幕，本屆論壇將延續(xù)“1個主論壇+N個專題論壇+N個特色活動”的多元化架構(gòu)，為參會者提供全方位、多層次的交流體驗。CSE同期會將匯聚國內(nèi)外頂尖專家、產(chǎn)業(yè)鏈頭部企業(yè)、科研院所及投資機構(gòu)，圍繞材料、芯片設(shè)計、制造工藝、測試驗證、應(yīng)用生態(tài)等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)展開深度探討，推動技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級的深度融合，為行業(yè)可持續(xù)發(fā)展注入新動能。
部分同期會日程
（更多會議日程后續(xù)持續(xù)更新，時間地點以現(xiàn)場公布為準(zhǔn)）
【LUCEDA光電子設(shè)計技術(shù)研討會及2025用戶大會會】
議時間：4月22日 13:50-18:30
會議地址：光谷科技會展中心大會議廳2
會議主辦：LUCEDA
活動報名：免費開放
比利時根特大學(xué)教授、硅光領(lǐng)域?qū)＜襑im Bogaerts將親臨現(xiàn)場，作為根特大學(xué)和 IMEC 光子學(xué)研究組的全職教授，他專注于硅光子學(xué)、復(fù)雜光子電路設(shè)計及可編程光子學(xué)研究，在低損耗納米光子波導(dǎo)、硅基光調(diào)制器、光子集成回路設(shè)計驗證方法等多個研究方向成果豐碩，是硅光子學(xué)領(lǐng)域的杰出學(xué)者。
本次研討會涉及多個光電子前沿領(lǐng)域的實際案例和創(chuàng)新實踐，全球主流光電子流片廠商將以多種形式參與技術(shù)研討，主要包括技術(shù)研討和流片設(shè)計培訓(xùn)兩大主題。
基于LUCEDA設(shè)計自動化和全流程生態(tài)的積極影響，來自國內(nèi)外光電子領(lǐng)域的頂尖專家學(xué)者與產(chǎn)業(yè)界領(lǐng)軍人物，將從光通信、光計算、傳感等多個前沿領(lǐng)域，以多維視角帶來啟發(fā)性的技術(shù)洞見、設(shè)計經(jīng)驗和實際成果，展現(xiàn)基于真實案例的創(chuàng)新實踐。
活動下半程將聯(lián)合武粵光電，聚焦基于真實流片PDK的設(shè)計培訓(xùn)，面向廣大光電子/硅光設(shè)計工程師，提供實戰(zhàn)化的技術(shù)指導(dǎo)，了解如何充分利用PDK進行高效設(shè)計，幫助掌握最新的設(shè)計技能和工具。培訓(xùn)過程將結(jié)合經(jīng)驗豐富的行業(yè)專家講解與針對性練習(xí)，幫助設(shè)計工程師掌握核心技能，應(yīng)對實際設(shè)計和流片過程中的技術(shù)挑戰(zhàn)。
【Keysight化合物半導(dǎo)體芯片與新技術(shù)測試研討會】
會議時間：4月22日 13:30-17:00
會議地址：光谷科技會展中心大會議廳1
會議主辦：是德科技（Keysight）
活動報名：免費開放
隨著半導(dǎo)體工藝和材料技術(shù)的不斷進步，特別是碳化硅（SiC）和氮化鎵（GaN）工藝的逐步成熟，功率器件、射頻芯片、光芯片以及光模塊等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域迎來了長足的發(fā)展。這些新型材料和工藝的應(yīng)用，不僅顯著提升了器件的性能和效率，還加速了新一代電子、通信和光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新步伐，也為測試帶來了前所未有的挑戰(zhàn)，高頻、高功率、高可靠性的測試需求不斷增長。
本次研討會，由九峰山實驗室與是德科技聯(lián)合舉辦，圍繞新型半導(dǎo)體技術(shù)及光電芯片技術(shù)展開，深入探討如何應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，覆蓋最新測試技術(shù)的研究進展、實際應(yīng)用案例及未來發(fā)展方向。
- 功率半導(dǎo)體靜態(tài)與動態(tài)參數(shù)測試概覽
- 224Gbps/lane光模塊關(guān)鍵技術(shù)
- 射頻放大器測試方案
- 光電器件及芯片測試解決方案
- AIDC-高算力芯片新技術(shù)測試挑戰(zhàn)
【芯基建·新未來 - 半導(dǎo)體廠房智能建造與運維生態(tài)論壇】
會議時間：4月24全天
會議地址：光谷科技會展中心多功能廳4
會議主辦：華康潔凈
活動報名：免費開放
本論壇將展示半導(dǎo)體廠房智能化設(shè)計和建造技術(shù)的最新成果，探討高效運維和智能管理策略，促進產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同合作。
主要亮點包括：
- 智能化設(shè)計與建造的深度融合
-綠色節(jié)能與可持續(xù)發(fā)展
-高效運維與智能管理平臺集成
-產(chǎn)業(yè)鏈上下游的緊密協(xié)同
-人才培養(yǎng)與技術(shù)創(chuàng)新
【新質(zhì)企業(yè)家沙龍】
會議時間：4月23日下午
會議地址：光谷科技會展中心大會議廳1
會議主辦：華中科技大學(xué)管理學(xué)院EMBA教育中心
活動報名：免費開放
當(dāng)前，全球正經(jīng)歷新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革，人工智能、量子科技等前沿技術(shù)迅猛發(fā)展，催生新產(chǎn)業(yè)、新模式、新動能。與此同時，我國深入實施創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略，加快建設(shè)科技強國，推動科技成果加速轉(zhuǎn)化為現(xiàn)實生產(chǎn)力。
在科技革命與產(chǎn)業(yè)變革交匯的新起點，華中科技大學(xué)管理學(xué)院EMBA教育中心攜手九峰山實驗室共同舉辦新質(zhì)企業(yè)家沙龍，解碼企業(yè)創(chuàng)新生態(tài)融通的未來方程式。在這里匯聚專家學(xué)者、領(lǐng)軍企業(yè)家聚焦拆解從實驗室到產(chǎn)業(yè)化的價值閉環(huán)，重塑科技、商業(yè)與生態(tài)的共生法則。
本次沙龍主要的亮點包括：
- 洞察前沿技術(shù)發(fā)展趨勢以及產(chǎn)業(yè)新機會
- 解析當(dāng)下企業(yè)科技成果轉(zhuǎn)化面臨的重難點
- 探尋企業(yè)創(chuàng)業(yè)生態(tài)融通的最佳路徑
【海外人才論壇】
會議時間：4月24日下午
會議地址：光谷科技會展中心小會議廳4
會議主辦：華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院/集成電路學(xué)院，九峰山實驗室，中國國際人才交流中心
活動報名：免費開放
為進一步落實黨中央關(guān)于推進“產(chǎn)學(xué)研用”一體化的要求，深化校企創(chuàng)新合作，緊密契合國家戰(zhàn)略與發(fā)展需求，推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破性發(fā)展，打造中國半導(dǎo)體國際人才匯聚樞紐，培育世界級產(chǎn)業(yè)集群，九峰山實驗室、華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院以及集成電路學(xué)院、中國國際人才交流中心聯(lián)合舉辦海外人才論壇，全球范圍內(nèi)吸引半導(dǎo)體行業(yè)海外人才。
【“東湖薈”-筑造科創(chuàng)雨林生態(tài)，參與全球科技治理】
會議時間：4月24日全天
會議地址：光谷科技會展中心大會議廳1
會議主辦：東湖薈
活動報名：審核制，報名聯(lián)系13628669711
1. 不同背景下的投資、金融、科技服務(wù)機構(gòu)將齊聚一堂，為不同類型的產(chǎn)業(yè)發(fā)展項目添磚加瓦：2. 結(jié)合化合物半導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè)特點，深入探討領(lǐng)域科技金融和科技服務(wù)的融合發(fā)展態(tài)勢；3. 知名機構(gòu)分享在經(jīng)濟全球化遭遇逆流，地緣政治影響愈演愈烈，科技創(chuàng)新加速迭代浪潮下的投資模式變化；4. 3+場項目路演閉門會同時舉辦，10+個優(yōu)質(zhì)項目正式亮相，期待與適配的投資人深度交流！
【武創(chuàng)薈·雙谷聯(lián)動】
會議時間：4月24日全天
會議地址：光谷科技會展中心、東風(fēng)汽車展廳等
會議主辦：武漢市科技創(chuàng)新局
活動報名：審核制，報名聯(lián)系15871358686
1.推動創(chuàng)新鏈、產(chǎn)業(yè)鏈、資金鏈、人才鏈深度融合，打通科技強到產(chǎn)業(yè)強、經(jīng)濟強通道，加快構(gòu)建“雙谷”高度協(xié)同、深度融合的創(chuàng)新生態(tài)，讓科技創(chuàng)新“關(guān)鍵變量”成為高質(zhì)量發(fā)展的“最大增量”。
2.“光谷”“車谷”的高科技企業(yè)圍繞各自科技成果、落地政策和應(yīng)用場景進行路演推介，攜手推動科技成果加快落地轉(zhuǎn)化，賦能“雙谷”產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。
3.多場項目路演同時舉辦，多個優(yōu)質(zhì)項目公開亮相。
【半導(dǎo)體材料技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化主題研討會】
會議時間：4月24日下午
會議地址：光谷科技會展中心多功能廳1
會議主辦：光谷芯片產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟
活動報名：審核制，報名聯(lián)系13477089166
會議將邀請半導(dǎo)體材料及相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈的著名專家、業(yè)界精英代表，圍繞Si、GaAs、SiC、GaN、Ga2O3等半導(dǎo)體材料與器件技術(shù)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展等行業(yè)熱點問題開展積極廣泛地交流與研討，主要亮點內(nèi)容包括：
-立足半導(dǎo)體行業(yè)的科技自立自強
-瞄準(zhǔn)新材料技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用現(xiàn)狀及未來發(fā)展需求
-聚焦產(chǎn)學(xué)研用，推進科技成果的轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化
-探討前沿技術(shù)賦能行業(yè)發(fā)展
-成立高端芯片產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展聯(lián)盟“半導(dǎo)體材料專委會”
【光谷國際科技文化創(chuàng)新論壇】
會議時間：4月24日 9:00-16:30
會議地址：光谷萬豪酒店2F大宴會廳
會議主辦：ARTSCI
首屆光谷國際科技文化創(chuàng)新論壇由ARTSCI聯(lián)合九峰山實驗室、華中科技大學(xué)等共同舉辦，打造有代表性的光谷文化國際活動，感受國際化的科技與文化的碰撞。
活動將通過主旨報告、圓桌論壇、科技音樂會等形式，邀請科技、藝術(shù)、文化行業(yè)大咖到場，在現(xiàn)場感受不同領(lǐng)域的科技與藝術(shù)的碰撞。
